|
Fotolitografia EUV - Extreme Ultra-Violet |
|
|
|
|
Redaktor: Elektronika.org.pl
|
|
04.03.2008. |
|
EUV lithography, czyli Extreme Ultra-Violet lithography to nowa technologia produkcji układów scalonych, która będzie musiała zostać wprowadzona do użytku jeżeli przyszłe tranzystory mają uzyskać rozmiary rzędu 22 czy 16 nanometrów. Aktualnie stosowany proces fotolitografii wykorzystuje światło UV o długości 193 nm, co dzięki odpowiednim zabiegom pozwala na tworzenie mikroprocesorów w wymiarze 45 nm i zapewne pozwoli także na zejście do 32 nm. Kolejna bariera może wymagać jednak zastosowania właśnie technologii EUV, która wykorzystuje fale o długości raptem 13.5 nm. Zaprezentowany przez AMD i IBM układ to procesor AMD zrealizowany w wymiarze technologicznym 45 nm. Według przewidywań obu firm, pierwsze układy produkowane przy użyciu EUV w wymiarze technologicznym 22 nm powinny pojawić się w okolicach 2016 roku. Intel prowadzi osobne badania nad tą technologią.
|
